冷卻水循環(huán)機（水冷）

冷卻水循環(huán)機（水冷）采用全封閉壓縮機制冷和PID智能程序控制，噪音低，制冷效率高，相關制冷關鍵配件也采用全進口配件，制冷系統(tǒng)具備高壓保護器，確保制冷系統(tǒng)安全；主要為用戶提供恒溫，恒壓，恒流的液體環(huán)境，滿足需要冷卻水設備的需求。

冷卻水循環(huán)機（水冷）安裝在室內，機組為一個整體，安裝在室內，制冷系統(tǒng)散出的熱量由用戶提供的外循環(huán)水帶出，適用于能夠提供外循環(huán)水的場合；

應用范圍

> 塑膠、電子制造、電鍍、醫(yī)藥化工、超聲波冷卻、印刷等工業(yè)生產，

> 配套X射線熒光譜儀、X射線衍射儀、等離子光譜儀（ICP）、光電子能譜、核磁共振儀

> 順磁共振儀、震動場強儀、真空鍍膜機、離子減薄儀、材料疲勞試驗機、離子束外延設備（MBE）、分子束外延設備（OCVD）

> 大功率激光器、等離子刻蝕機、大功率真空釬焊爐、金屬材料氧氮分析儀、材料模擬試驗機等設備配套使用

產品特點

> 精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度精確可控，適用于5℃～35℃化工、制藥等化學反應工藝過程控制等；

> 品牌壓縮機，噪音低，制冷效率高；

> 制冷相關配件采用進口品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；

> 制冷系統(tǒng)具備高壓保護器，確保制冷系統(tǒng)安全；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

> 大容量液槽內膽等可能與工作介質接觸的部件采用不銹鋼材料，經久耐用、便于清洗；

應用范圍：石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的降溫控溫等；

技術參數

冷卻水循環(huán)機（5℃～35℃）

備注：冷卻水循環(huán)機（水冷）所有技術參數均為標準配置參數，涉及溫度波動度、壓力、流量、制冷功率等詳細技術參數也可以向相應銷售索取；若客戶對設備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制，我公司可以根據實際的需求做非標定制化處理。

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